エリオニクスの新たなENTシリーズ、ENT-NEXUS(ネクサス)誕生。
フレームとユニットの自由な組み合わせが可能なモジュール構成を採用し、ナノインデンテーション試験をはじめ表面力測定など多彩な測定が可能。（但し、搭載可能ユニットは2式まで) NEXUS―枠を超え、結びつくもの。エリオニクスの叡智がここに結集。
株式会社 エリオニクス 超微小押し込み硬さ試験機（ナノインデンテーション） (ENT-NEXUS)
超微小押し込み硬さ試験機（ナノインデンテーション）の特長
製品特徴
■ナノインデンテーション試験
ISO 14577-1に準拠したナノインデンテーション（超微小押し込み硬さ）試験に対応。
・高荷重ユニットでは5μN～2Nまでの試験が可能。
金属材料から高分子材料まで幅広い材料の硬度試験に対応。
・軽荷重ユニットでは0.5μN～10mNに対応。
100nm以下の極薄膜のナノインデンテーション試験をも可能にする、
軟質材料（弾性率：数Gpa以下）や、押し込み深さ10nm以下の測定に対し優れた繰り返し再現性と安定性が
得られます。
UV硬化樹脂、Low-k膜等の機能性樹脂やその他シリコーンゴム等の弾性材料、DLC膜などの極薄い硬質膜への
力学特性評価に適しています。
■表面力測定
表面力ユニットを取り付けることで、物体間に働く表面力を測定することが可能。
プローブを自由に選択可能。実際の系に近い形で表面力測定が可能な世界初の測定ユニットです。
高いデータ再現性
安定性に優れた高S/Nのシステムを実現。超微小荷重域においても再現性のよい試験が可能です。
測定環境管理機構
・温度管理機構
ナノインデンテーション試験では、装置自体、またサンプルの温度変化による熱ドリフトが大きな問題となります。
熱ドリフトによる測定への影響を最小化するため、シールドケース内を±0.1℃で温度コントロールしています。
またステージをはじめ主要部品に低熱膨張材を使用。極めて再現性のよい試験が可能です。
・高性能除振台搭載
アクティブコントロールの高性能除振台を標準装備。ノイズ源となる振動をキャンセル、振動の多い環境においても
安定した測定を可能にしています。
優れた操作性
イージーオペレーションを追求したソフトウェアを採用。試験条件を設定するだけでフルオート測定が可能ですので、
人為的な誤差がなく初心者の方でも容易にオペレート可能です。
また、充実した解析機能を搭載。痒いところに手が届く、柔軟性あるソフトウェアです。
製品特徴
■ナノインデンテーション試験
ISO 14577-1に準拠したナノインデンテーション（超微小押し込み硬さ）試験に対応。
・高荷重ユニットでは5μN～2Nまでの試験が可能。
金属材料から高分子材料まで幅広い材料の硬度試験に対応。
・軽荷重ユニットでは0.5μN～10mNに対応。
100nm以下の極薄膜のナノインデンテーション試験をも可能にする、
軟質材料（弾性率：数Gpa以下）や、押し込み深さ10nm以下の測定に対し優れた繰り返し再現性と安定性が
得られます。
UV硬化樹脂、Low-k膜等の機能性樹脂やその他シリコーンゴム等の弾性材料、DLC膜などの極薄い硬質膜への
力学特性評価に適しています。
■表面力測定
表面力ユニットを取り付けることで、物体間に働く表面力を測定することが可能。
プローブを自由に選択可能。実際の系に近い形で表面力測定が可能な世界初の測定ユニットです。
高いデータ再現性
安定性に優れた高S/Nのシステムを実現。超微小荷重域においても再現性のよい試験が可能です。
測定環境管理機構
・温度管理機構
ナノインデンテーション試験では、装置自体、またサンプルの温度変化による熱ドリフトが大きな問題となります。
熱ドリフトによる測定への影響を最小化するため、シールドケース内を±0.1℃で温度コントロールしています。
またステージをはじめ主要部品に低熱膨張材を使用。極めて再現性のよい試験が可能です。
・高性能除振台搭載
アクティブコントロールの高性能除振台を標準装備。ノイズ源となる振動をキャンセル、振動の多い環境においても
安定した測定を可能にしています。
優れた操作性
イージーオペレーションを追求したソフトウェアを採用。試験条件を設定するだけでフルオート測定が可能ですので、
人為的な誤差がなく初心者の方でも容易にオペレート可能です。
また、充実した解析機能を搭載。痒いところに手が届く、柔軟性あるソフトウェアです。
Contact 超微小押し込み硬さ試験機（ナノインデンテーション）に関するお問い合わせ
出展企業情報
- 企業名
-
株式会社 エリオニクス
- 企業PR
- エリオニクスは、1975年の創立以来、常に最先端の科学技術の進歩に貢献する装置作りを目指して、ナノテクノロジーの研究開発用装置を世に送り出してきました。 電子ビーム描画装置では、1997年に、当時の最高スペックを1/5にした線幅10nmを描ける超高精細電子線描画装置を開発、その後も次々に世界最高性能の装置を開発してきました。 2つのCS「Challenge and Speed」「Customer Satisfaction」を基本姿勢として、常に他社に先駆けた装置開発を行っており、それが現在までナノテク研究用装置メーカーとしてトップランナーであり続けられた理由であると考えております。 研究開発用装置は日本国内及び、世界の大学・公的機関などにも導入され、高い評価を受けておりますが、今後は研究開発から事業化に向けた生産用装置の開発・販売にも注力してまいります。 私たちはこれからも世界中の皆様の課題解決のパートナーとして、最高性能の装置、最高の顧客満足を提供する世界ブランドの企業を目指してまいります。
